विशेष गैसें
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सल्फर टेट्राफ्लोराइड (SF4)
ईआईएनईसी क्रमांक: 232-013-4
सीएएस क्रमांक: 7783-60-0 -
नाइट्रस ऑक्साइड (N2O)
नाइट्रस ऑक्साइड, जिसे लाफिंग गैस के नाम से भी जाना जाता है, एक खतरनाक रसायन है जिसका रासायनिक सूत्र N2O है। यह रंगहीन, मीठी गंध वाली गैस है। N2O एक ऑक्सीकारक है जो कुछ परिस्थितियों में दहन में सहायक हो सकता है, लेकिन कमरे के तापमान पर स्थिर रहता है और इसका हल्का बेहोशी लाने वाला प्रभाव होता है, और यह लोगों को हंसा सकता है। -
कार्बन टेट्राफ्लोराइड (CF4)
कार्बन टेट्राफ्लोराइड, जिसे टेट्राफ्लोरोमीथेन भी कहा जाता है, सामान्य तापमान और दबाव पर एक रंगहीन गैस है जो पानी में अघुलनशील है। CF4 गैस वर्तमान में सूक्ष्म इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग में सबसे व्यापक रूप से उपयोग की जाने वाली प्लाज्मा एचिंग गैस है। इसका उपयोग लेजर गैस, क्रायोजेनिक रेफ्रिजरेंट, विलायक, स्नेहक, इन्सुलेटिंग सामग्री और इन्फ्रारेड डिटेक्टर ट्यूबों के लिए शीतलक के रूप में भी किया जाता है। -
सल्फ्यूरिल फ्लोराइड (F2O2S)
सल्फ्यूरिल फ्लोराइड SO2F2 एक जहरीली गैस है, जिसका मुख्य रूप से कीटनाशक के रूप में उपयोग किया जाता है। सल्फ्यूरिल फ्लोराइड में प्रबल प्रसार और पारगम्यता, व्यापक स्पेक्ट्रम कीटनाशक, कम खुराक, कम अवशेष मात्रा, तीव्र कीटनाशक गति, कम गैस फैलाव समय, कम तापमान पर सुविधाजनक उपयोग, अंकुरण दर पर कोई प्रभाव नहीं और कम विषाक्तता जैसे गुण होते हैं, इसलिए इसका उपयोग गोदामों, मालवाहक जहाजों, इमारतों, जलाशय बांधों, दीमक रोकथाम आदि में तेजी से बढ़ रहा है। -
सिलान (SiH4)
सिलान SiH4 सामान्य तापमान और दबाव पर एक रंगहीन, विषैली और अत्यंत सक्रिय संपीड़ित गैस है। सिलान का व्यापक रूप से सिलिकॉन के एपिटैक्सियल विकास, पॉलीसिलिकॉन, सिलिकॉन ऑक्साइड, सिलिकॉन नाइट्राइड आदि के कच्चे माल, सौर सेल, ऑप्टिकल फाइबर, रंगीन कांच निर्माण और रासायनिक वाष्प निक्षेपण में उपयोग किया जाता है। -
ऑक्टाफ्लोरोसाइक्लोब्यूटेन (C4F8)
ऑक्टाफ्लोरोसाइक्लोब्यूटेन C4F8, गैस शुद्धता: 99.999%, अक्सर खाद्य पदार्थों के लिए एरोसोल प्रोपेलेंट और माध्यम गैस के रूप में उपयोग किया जाता है। इसका उपयोग अक्सर सेमीकंडक्टर PECVD (प्लाज्मा एन्हांस्ड केमिकल वेपर डिपोजिशन) प्रक्रिया में किया जाता है। C4F8 को CF4 या C2F6 के विकल्प के रूप में उपयोग किया जाता है, और इसे सफाई गैस और सेमीकंडक्टर प्रक्रिया एचिंग गैस के रूप में भी इस्तेमाल किया जाता है। -
नाइट्रिक ऑक्साइड (NO)
नाइट्रिक ऑक्साइड गैस नाइट्रोजन का एक यौगिक है जिसका रासायनिक सूत्र NO है। यह एक रंगहीन, गंधहीन, विषैली गैस है जो पानी में अघुलनशील है। नाइट्रिक ऑक्साइड रासायनिक रूप से अत्यंत क्रियाशील होती है और ऑक्सीजन के साथ अभिक्रिया करके संक्षारक गैस नाइट्रोजन डाइऑक्साइड (NO₂) बनाती है। -
हाइड्रोजन क्लोराइड (एचसीएल)
हाइड्रोजन क्लोराइड (एचसीएल) एक रंगहीन गैस है जिसकी गंध तीखी होती है। इसके जलीय विलयन को हाइड्रोक्लोरिक अम्ल कहा जाता है। हाइड्रोजन क्लोराइड का मुख्य उपयोग रंगों, मसालों, औषधियों, विभिन्न क्लोराइडों और संक्षारण अवरोधकों के निर्माण में होता है। -
हेक्साफ्लोरोप्रोपिलीन (C3F6)
हेक्साफ्लोरोप्रोपिलीन, जिसका रासायनिक सूत्र C3F6 है, सामान्य तापमान और दाब पर एक रंगहीन गैस है। इसका मुख्य उपयोग विभिन्न फ्लोरीन युक्त सूक्ष्म रासायनिक उत्पादों, फार्मास्युटिकल मध्यवर्ती पदार्थों, अग्निशामक पदार्थों आदि के निर्माण में किया जाता है, और इसका उपयोग फ्लोरीन युक्त बहुलक पदार्थों के निर्माण में भी किया जा सकता है। -
अमोनिया (NH3)
तरल अमोनिया/निर्जल अमोनिया एक महत्वपूर्ण रासायनिक कच्चा माल है जिसके व्यापक अनुप्रयोग हैं। तरल अमोनिया का उपयोग शीतलक के रूप में किया जा सकता है। इसका मुख्य उपयोग नाइट्रिक अम्ल, यूरिया और अन्य रासायनिक उर्वरकों के उत्पादन में होता है, और इसे औषधियों और कीटनाशकों के कच्चे माल के रूप में भी इस्तेमाल किया जा सकता है। रक्षा उद्योग में, इसका उपयोग रॉकेट और मिसाइलों के प्रणोदक बनाने में किया जाता है।
