विशेष गैसें
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सल्फर टेट्राफ्लोराइड (एसएफ 4)
EINECS NO: 232-013-4
CAS NO: 7783-60-0 -
नाइट्रस ऑक्साइड
नाइट्रस ऑक्साइड, जिसे हंसी गैस के रूप में भी जाना जाता है, रासायनिक सूत्र N2O के साथ एक खतरनाक रसायन है। यह एक रंगहीन, मीठी-महक वाली गैस है। N2O एक ऑक्सीडेंट है जो कुछ शर्तों के तहत दहन का समर्थन कर सकता है, लेकिन कमरे के तापमान पर स्थिर है और इसका मामूली संवेदनाहारी प्रभाव है। , और लोगों को हंसा सकते हैं। -
कार्बन टेट्राफ्लोराइड
कार्बन टेट्राफ्लुओराइड, जिसे टेट्राफ्लोरोरोमेथेन के रूप में भी जाना जाता है, सामान्य तापमान और दबाव में एक रंगहीन गैस है, जो पानी में अघुलनशील है। CF4 गैस वर्तमान में माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक उद्योग में सबसे व्यापक रूप से इस्तेमाल की जाने वाली प्लाज्मा नक़्क़ाशी गैस है। इसका उपयोग लेजर गैस, क्रायोजेनिक रेफ्रिजरेंट, विलायक, स्नेहक, इन्सुलेटिंग सामग्री और इन्फ्रारेड डिटेक्टर ट्यूबों के लिए शीतलक के रूप में भी किया जाता है। -
सल्फरिल फ्लोराइड (F2O2S)
सल्फरिल फ्लोराइड SO2F2, जहरीला गैस, मुख्य रूप से कीटनाशक के रूप में उपयोग किया जाता है। क्योंकि सल्फ्यूरिल फ्लोराइड में मजबूत प्रसार और पारगम्यता, व्यापक-स्पेक्ट्रम कीटनाशक, कम खुराक, कम अवशिष्ट राशि, तेजी से कीटनाशक गति, छोटी गैस फैलाव समय, कम तापमान पर सुविधाजनक उपयोग, अंकुरण दर और कम विषाक्तता पर कोई प्रभाव नहीं होने की विशेषताएं हैं, जो कि अधिक और अधिक व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है, कार्गो, कार्गो, बिल्डिंग, बिल्डिंग। -
सिलेन (SIH4)
सिलेन SIH4 सामान्य तापमान और दबाव में एक रंगहीन, विषाक्त और बहुत सक्रिय संपीड़ित गैस है। सिलेन का उपयोग सिलिकॉन के एपिटैक्सियल ग्रोथ में व्यापक रूप से किया जाता है, पॉलीसिलिकॉन, सिलिकॉन ऑक्साइड, सिलिकॉन नाइट्राइड, आदि के लिए कच्चे माल, सौर कोशिकाएं, ऑप्टिकल फाइबर, रंगीन ग्लास निर्माण और रासायनिक वाष्प बयान। -
Octafluorocyclobutane (C4F8)
Octafluorocyclobutane C4F8, गैस शुद्धता: 99.999%, अक्सर खाद्य एरोसोल प्रोपेलेंट और मध्यम गैस के रूप में उपयोग किया जाता है। इसका उपयोग अक्सर अर्धचालक PECVD (प्लाज्मा वृद्धि। रासायनिक वाष्प जमाव) प्रक्रिया में किया जाता है, C4F8 का उपयोग CF4 या C2F6 के विकल्प के रूप में किया जाता है, जिसका उपयोग सफाई गैस और अर्धचालक प्रक्रिया नक़्क़ाशी गैस के रूप में किया जाता है। -
नाइट्रिक ऑक्साइड (नहीं)
नाइट्रिक ऑक्साइड गैस रासायनिक सूत्र संख्या के साथ नाइट्रोजन का एक यौगिक है। यह एक रंगहीन, गंधहीन, जहरीली गैस है जो पानी में अघुलनशील है। नाइट्रिक ऑक्साइड रासायनिक रूप से बहुत प्रतिक्रियाशील है और संक्षारक गैस नाइट्रोजन डाइऑक्साइड (NO₂) बनाने के लिए ऑक्सीजन के साथ प्रतिक्रिया करता है। -
हाइड्रोजन क्लोराइड (एचसीएल)
हाइड्रोजन क्लोराइड एचसीएल गैस एक तीखी गंध के साथ एक रंगहीन गैस है। इसके जलीय घोल को हाइड्रोक्लोरिक एसिड कहा जाता है, जिसे हाइड्रोक्लोरिक एसिड के रूप में भी जाना जाता है। हाइड्रोजन क्लोराइड का उपयोग मुख्य रूप से रंजक, मसाले, दवाएं, विभिन्न क्लोराइड और संक्षारण अवरोधक बनाने के लिए किया जाता है। -
हेक्सफ्लुओरोप्रोपाइलीन (C3F6)
हेक्सफ्लोरोप्रोपाइलीन, रासायनिक सूत्र: C3F6, सामान्य तापमान और दबाव पर एक रंगहीन गैस है। इसका उपयोग मुख्य रूप से विभिन्न फ्लोरीन युक्त ठीक रासायनिक उत्पादों, दवा मध्यवर्ती, आग बुझाने वाले एजेंटों आदि को तैयार करने के लिए किया जाता है, और फ्लोरीन युक्त बहुलक सामग्री तैयार करने के लिए भी उपयोग किया जा सकता है। -
अमोनिया (एनएच 3)
लिक्विड अमोनिया / एनहाइड्रस अमोनिया एक महत्वपूर्ण रासायनिक कच्चा माल है जिसमें अनुप्रयोगों की एक विस्तृत श्रृंखला है। तरल अमोनिया का उपयोग सर्द के रूप में किया जा सकता है। इसका उपयोग मुख्य रूप से नाइट्रिक एसिड, यूरिया और अन्य रासायनिक उर्वरकों का उत्पादन करने के लिए किया जाता है, और इसका उपयोग दवा और कीटनाशकों के लिए एक कच्चे माल के रूप में भी किया जा सकता है। रक्षा उद्योग में, इसका उपयोग रॉकेट और मिसाइलों के लिए प्रणोदक बनाने के लिए किया जाता है।
